净化车间技术不仅在医疗、食品、微电子行业中广泛的应用。许多电子企业也把眼光放到了电子厂净化车间技术上，要确保达到净化标准就需要电子厂净化车间技术符合标准，而目前，电子厂净化车间技术主要有物理式净化技术、静电净化技术、化学式净化技术三种。
物理式净化技术：包括吸附性过滤和机械性过滤
活性炭
这是一种多孔性的含炭物质, 活性肽具有非常发达的孔隙构造, 它的多孔结构为其提供了大量的表面积，能与气体(杂质)充分接触，从而赋予了活性炭所特有的吸附性能，使其非常容易达到吸收收集杂质的目的。就象磁力一样，所有的分子之间都具有相互引力
缺点：普通活性炭并不能吸附所有的有毒气体，效率较低、易脱附。
前者利用具有高度发达的孔隙构造的活性炭吸附微尘，后者利用高效空气过滤器，空气可以通过，但细小的微粒却无法通过。
静电净化技术
工作原理：采用高压静电吸附除尘工作原理。静电式是采用高压静电吸附除尘的工作原理。静电场中的阴极线在高压静电的作用下，产生电晕放电，电晕层中产生大量的负离子，负离子在静电场的作用下，不断地向阳极运动。当空气中粉尘通过电场时，粉尘受到负离子的碰撞带上电荷，带上电荷后的粉尘同样受到静电场的作用，向阳极(集尘极)运动，到达阳极后释放电荷。
缺点：这种电子厂净化车间技术可去除飘尘(不能去除毒害气体)，效能比机械式低、慢，而且易产生臭氧。
化学式净化技术有光催化法，甲醛清除剂清除法、冷触媒催化法。其中，冷触媒是继光触媒除臭空气净化材料之后的又一种新型空气净化材料，常温反应，边吸附边分解，不会在电子厂净化车间内产生二次污染，大大延长了吸附材料的使用寿命。
现在人们使用电子产品的普及越来越高，对其生产品质的要求也越来越严格。电子厂与其他行业在净化车间的建设规划时对静电有着特殊的要求。通常静电会对产品造成短路甚至会造成员工导电晕倒事故，电子厂净化车间要保持恒温恒湿，这样才可以减少静电的产生。
举例三
在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低。
从以上的描述来看，净化车间的温湿度控制由其生产工艺决定，但其精度同时也要看其房间的大小例如计量室、光栅刻线室、精密仪器制造和装配车间等。前两者都为小房间，空调精度(这里主要指温湿度)要求高;后两者为较大的生产车间，温湿精度要求较低。所以其大小也会决定恒温恒湿车间的精度。想了解更多，请登录润德净化官
