洁净室的温湿度主要是根据加工工艺要求来确定，具备加工工艺的前提下，首先应当考虑人的舒适感。工艺对温湿度的要求越来越高是因为空气洁净度要求的提高，温湿度需要达到特定的值等。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以有±0.1度的恒温，湿度值一般也要求较低，由于人体出汗之后会污染产品，特别是钠的半导体车间，其温度不宜超过25度。（
无尘车间,无尘室,洁净室,净化工程）
湿度偏高会发生很多问题，当湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，容易发生各种事故。相应湿度在50%时容易生锈。那么净化工程要控制温湿度具体有什么措施？下面由永科净化列举的几个控制湿度的方法。
为了防止外界污染 侵入，对于大部分洁净空间而言需要保持内部的压力（静压）高于外部的压力（静压）。压力差的维持一般应符合以下原则：
1、洁净度高的空间的压力要高于相邻的洁净度低的空间的压力
2、洁净室工程之间相互互通的门要开向洁净度高的房间。
3、非洁净空间的压力不可高于洁净室空间的风淋室压力
压力差是需要靠新风量来维持的，在这压力差下从缝隙漏泄掉的风量可以由这个新风量补偿。所以压力差的物理意义就是漏泄（或渗透）风量 通过洁净室的各种缝隙时的阻力。（无尘车间,无尘室,洁净室,净化工程）
乱流洁净室主要靠空气的稀释作用来减轻室内污染的程度，因此主要用换气次数这概念，而不用速度的概念，但是，对于室内气流速度也有以下要求：
1、送风口出口气流速度不适合太大，相对于单纯空调房间而言，对速度的衰减要求更快，扩散角度更广泛。
2、吹过水平面的气流速度（例如侧送时回流速度）不适合太大，以免吹起表面微粒重返气流造成二次污染，这速度一般不宜大于0.2m/s。（无尘车间,无尘室,洁净室,净化工程）
