洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，人的舒适度感是在满足工艺要求的条件下也同时需要考虑到的。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。（无尘车间,无尘室,洁净室,净化工程,福建永科）
具体工艺对温度的要求还有很多例子，但总体而言，越来越精细的加工精度导致对温度波动范围的要求越来越小。举个例子：在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，玻璃与硅片作为掩膜板的材料，它们的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，由于人出汗之后会污染产品，尤其是怕钠的半导体车间，这种车间温度不能超过25度。（无尘车间,无尘室,洁净室,净化工程,福建永科）
过高湿度会遇到更多的问题。在精密装置或电路中，如果相对湿度超过55%，冷却水管壁上就会结露，这种现象容易引发各种事故。相对湿度在50%时则容易生锈。此外，我们会发现硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面并难以清除，这其实就是湿度太高时空气中的水分子在搞鬼。相对湿度越高,粘附的越难去掉，但当相对湿度低于30%时，粒子也容易吸附于表面这是由于静电力的作用，与此同时大量半导体器件会更易发生击穿的现象。硅片生产的最佳湿度范围为是35—45%。（无尘车间,无尘室,洁净室,净化工程,福建永科）
