光刻工艺洁净车间作为芯片制造过程中关键的环境设施之一，对洁净度具有严格要求。洁净度的要求直接影响到芯片制造的质量和可靠性。以下是光刻工艺洁净车间对洁净度的一些主要要求：
1. 无尘或微尘极少
洁净车间要求空气中几乎无尘或微尘含量非常低，通常以每立方米空气中的微尘颗粒数量来衡量。尘埃粒子越小，则光刻过程中对光学系统的影响越小。因此，在光刻工艺厦门洁净车间中，尘埃粒子的浓度必须严格控制在要求范围内，通常要求达到一定的洁净级别，如ISO 14644-1标准规定的洁净级别。
2. 低挥发性有机物（VOC）和气味
VOC和异味会对光刻过程造成污染，降低芯片的质量和可靠性。因此，洁净车间要求空气中的VOC和气味浓度控制在极低水平，以确保光刻过程的稳定性和一致性。
3. 温湿度控制
温湿度的控制对保持洁净车间的环境稳定性和湿度的统一性至关重要。温湿度应根据工艺流程和要求来控制，通常要求温度在特定范围内保持稳定，并且湿度能够在所需的范围内进行调节。
4. 防静电措施
静电会对光刻过程造成严重的干扰和破坏，影响芯片的制造。洁净车间要求采取有效的防静电措施，如铺设导电地板、使用防静电设备和工具等，以确保静电的有效防护。
5. 人员行为和装备要求
人员在进入洁净车间时需要穿戴合适的防护服装，如洁净服、手套、鞋套等，以防止人员带入灰尘和微生物等污染物。同时，洁净车间要求使用特定的工作器具和设备，并在使用前进行清洁和消毒。
洁净车间对洁净度的要求是基于芯片制造过程的特殊要求和产品质量的保证。通过严格遵守相关的洁净度要求和标准，可以确保洁净车间提供适合的环境，以实现高质量的芯片制造。
